美国和荷兰政府同时就中国自主研发光刻机技术发表声明，称中国的技术开发可能破坏全球半导体产业链的稳定，并引发技术安全担忧。两国认为，中国在光刻机领域的独立研发不仅挑战了现有技术垄断格局，还可能加剧地缘政治竞争。
光刻机作为芯片制造的核心设备，长期由荷兰ASML等少数企业主导。中国近年来加大投入，旨在突破技术瓶颈，实现自主可控。美荷两国的批评聚焦于知识产权保护、技术标准统一以及市场公平竞争等问题。他们呼吁中国在技术开发中遵循国际规则，避免通过非市场手段获取优势。
这一事件折射出全球科技竞争日益激烈，各国在高端制造领域的博弈不断升级。中国的光刻机技术开发虽面临外部压力，但也凸显了自主创新在国家安全和产业发展中的重要性。如何平衡技术自主与国际合作，将成为中国乃至全球半导体行业的关键议题。
